SULJE VALIKKO

avaa valikko

Sigrid Ruprecht | Akateeminen Kirjakauppa

Haullasi löytyi yhteensä 4 tuotetta
Haluatko tarkentaa hakukriteerejä?



Ternary and Quaternary Si(H)F-O, Si(H)F-N, and SiF(-O)-N Compounds, Derivatives Substituted at O and N, and Fluorosilicate Salts
Werner Behrendt; Reinhard Haubold; Wolfgang Kurtz; Sigrid Ruprecht; Hans Schäfer; Friedrich Schröder; Carol Strametz
Springer (1997)
Kovakantinen kirja
1186,40
Tuotetta lisätty
ostoskoriin kpl
Siirry koriin
Binary Species of Silicon and Fluorine
Edwin Hengge; Robert Schlögl; Claudia Heinrich-Sterzel; Jörn v. Jouanne; Peter Merlet; Alfred Pebler; Sigrid Ruprecht; Hans Schä
Springer (1992)
Kovakantinen kirja
1358,30
Tuotetta lisätty
ostoskoriin kpl
Siirry koriin
Ternary Silicon-Fluorine-Hydrogen Compounds
Werner Behrendt; Reinhard Haubold; Hannelore Keller-Rudek; Sigrid Ruprecht; Hans Schäfer; Friedrich Schröder
Springer (1996)
Kovakantinen kirja
911,50
Tuotetta lisätty
ostoskoriin kpl
Siirry koriin
Gmelin Handbook of Inorganic and Organometallic Chemistry - 8th Edition
Hartmut Bergmann; Gerhard Czack; Hiltrud Hein; Sigrid Ruprecht; Ursula Vetter
Springer-Verlag Berlin and Heidelberg GmbH & Co. KG (1989)
150,40
Tuotetta lisätty
ostoskoriin kpl
Siirry koriin
Ternary and Quaternary Si(H)F-O, Si(H)F-N, and SiF(-O)-N Compounds, Derivatives Substituted at O and N, and Fluorosilicate Salts
1186,40 €
Springer
Sivumäärä: 289 sivua
Asu: Kovakantinen kirja
Julkaisuvuosi: 1997, 01.06.1997 (lisätietoa)
Kieli: Englanti
The volume covers some 750 Si-F and Si(H)-F species which have additional bonds to oxygen, nitrogen, or both; O- and N-organylsubstituted derivatives and fluorosilicates are included. With Si coordination numbers ranging from two to six, the volume presents a broad spectrum of chemical topics. They extend from theoretical calculations on the stabilities and properties of the unstable SiFHO structural isomers, via preparative and structural results for penta- and hexacoordinated SiF4 adducts, to the use of fluoroalkoxysilanes in the formation of silicon films at low temperature, and the various methods of manufacturing (NH4)2SiF6. The physical properties of the ions in this salt were also studied at length.

Loppuunmyyty
Myymäläsaatavuus
Helsinki
Tapiola
Turku
Tampere
Ternary and Quaternary Si(H)F-O, Si(H)F-N, and SiF(-O)-N Compounds, Derivatives Substituted at O and N, and Fluorosilicate Salts
Näytä kaikki tuotetiedot
ISBN:
9783540937500
Sisäänkirjautuminen
Kirjaudu sisään
Rekisteröityminen
Oma tili
Omat tiedot
Omat tilaukset
Omat laskut
Lisätietoja
Asiakaspalvelu
Tietoa verkkokaupasta
Toimitusehdot
Tietosuojaseloste