SULJE VALIKKO

avaa valikko

Chemical Physics of Thin Film Deposition Processes for Micro- and Nano-Technologies
101,40 €
Springer
Sivumäärä: 363 sivua
Asu: Pehmeäkantinen kirja
Julkaisuvuosi: 2002, 30.04.2002 (lisätietoa)
Kieli: Englanti
Tuotesarja: NATO Science Series II: Mathematics, Physics and Chemistry 55

An up-to-date collection of tutorial papers on the latest advances in the deposition and growth of thin films for micro and nano technologies. The emphasis is on fundamental aspects, principles and applications of deposition techniques used for the fabrication of micro and nano devices. The deposition of thin films is described, emphasising the gas phase and surface chemistry and its effects on the growth rates and properties of films. Gas-phase phenomena, surface chemistry, growth mechanisms and the modelling of deposition processes are thoroughly described and discussed to provide a clear understanding of the growth of thin films and microstructures via thermally activated, laser induced, photon assisted, ion beam assisted, and plasma enhanced vapour deposition processes.


A handbook for engineers and scientists and an introduction for students of microelectronics.



Tuotetta lisätty
ostoskoriin kpl
Siirry koriin
LISÄÄ OSTOSKORIIN
Tilaustuote | Arvioimme, että tuote lähetetään meiltä noin 4-5 viikossa
Myymäläsaatavuus
Helsinki
Tapiola
Turku
Tampere
Chemical Physics of Thin Film Deposition Processes for Micro- and Nano-Technologieszoom
Näytä kaikki tuotetiedot
ISBN:
9781402005251
Sisäänkirjautuminen
Kirjaudu sisään
Rekisteröityminen
Oma tili
Omat tiedot
Omat tilaukset
Omat laskut
Lisätietoja
Asiakaspalvelu
Tietoa verkkokaupasta
Toimitusehdot
Tietosuojaseloste