Wolfgang Ruprecht | Akateeminen Kirjakauppa

Haullasi löytyi yhteensä 4 tuotetta
Haluatko tarkentaa hakukriteerejä?

TERNARY AND QUATERNARY SI(H)F-O, SI(H)F-N, AND SIF(-O)-N COMPOUNDS, DERIVATIVES SUBSTITUTED AT O AND N, AND FLUOROSILICATE SALTS

Tekijä: Werner Behrendt; Reinhard Haubold; Wolfgang Kurtz; Sigrid Ruprecht; Hans Schäfer; Friedrich Schröder; Carol Strametz
Kustantaja: Springer (1997)
Saatavuus: Loppuunmyyty.

EUR 1186,40

BUSINESS BEHAVIOUR II/III/IV HAK + DIGITALES ZUSATZPAKET

Tekijä: Wolfgang Stanek; Elke Austerhuber; Dagmar Springsits; Margit Schachinger; Wolfgang Ruprecht
Kustantaja: Trauner Verlag (2020)
Saatavuus: Selvityksessä

EUR 57,20

PHYSIK 9 SCHÜLERBAND GYMNASIUM BAYERN

Tekijä: Wolfgang Kellner; Eva-Maria Meyer; Wolfgang Riffelmacher; Martin Schalk; Ruprecht Steinhübl; Christine Waltner; Dietrich
Kustantaja: Buchner, C.C. Verlag (2021)
Saatavuus: Noin 6-9 arkipäivää

EUR 32,00

PHYSIK BAYERN 11

Tekijä: Rüdiger Janner; Wolfgang Kellner; Eva-Maria Meyer; Wolfgang Riffelmacher; Martin Schalk; Ruprecht Steinhübl; Rai Dietrich
Kustantaja: Buchner, C.C. Verlag (2023)
Saatavuus: Noin 6-9 arkipäivää

EUR 35,60

Ternary and Quaternary Si(H)F-O, Si(H)F-N, and SiF(-O)-N Compounds, Derivatives Substituted at O and N, and Fluorosilicate Salts

Werner Behrendt, Reinhard Haubold, Wolfgang Kurtz, Sigrid Ruprecht, Hans Schäfer, Friedrich Schröder, Carol Strametz

1186,40 €

Springer
Sivumäärä: 289 sivua
Asu: Kovakantinen kirja
Julkaisuvuosi: 1997, 01.06.1997 (lisätietoa)
Kieli: Englanti

The volume covers some 750 Si-F and Si(H)-F species which have additional bonds to oxygen, nitrogen, or both; O- and N-organylsubstituted derivatives and fluorosilicates are included. With Si coordination numbers ranging from two to six, the volume presents a broad spectrum of chemical topics. They extend from theoretical calculations on the stabilities and properties of the unstable SiFHO structural isomers, via preparative and structural results for penta- and hexacoordinated SiF4 adducts, to the use of fluoroalkoxysilanes in the formation of silicon films at low temperature, and the various methods of manufacturing (NH4)2SiF6. The physical properties of the ions in this salt were also studied at length.

Loppuunmyyty.

Myymäläsaatavuus