SULJE VALIKKO
KIRJAUDU
Englanninkielisten kirjojen poikkeusaikata... LUE LISÄÄ
| Electromigration in Metals: Fundamentals to Nano-Interconnects 94,20 € Cambridge University Press Sivumäärä: 430 sivua Asu: Kovakantinen kirja Julkaisuvuosi: 2022, 12.05.2022 (lisätietoa) Kieli: Englanti Learn to assess electromigration reliability and design more resilient chips in this comprehensive and practical resource. Beginning with fundamental physics and building to advanced methodologies, this book enables the reader to develop highly reliable on-chip wiring stacks and power grids. Through a detailed review on the role of microstructure, interfaces and processing on electromigration reliability, as well as characterisation, testing and analysis, the book follows the development of on-chip interconnects from microscale to nanoscale. Practical modeling methodologies for statistical analysis, from simple 1D approximation to complex 3D description, can be used for step-by-step development of reliable on-chip wiring stacks and industrial-grade power/ground grids. This is an ideal resource for materials scientists and reliability and chip design engineers. Tilaustuote | Arvioimme, että tuote lähetetään meiltä noin 2-3 viikossa
Myymäläsaatavuus
Näytä kaikki tuotetiedotISBN: 9781107032385 Aihealue: |
Sisäänkirjautuminen
Kirjaudu sisäänRekisteröityminen |
Oma tili
Omat tiedotOmat tilaukset Omat laskut |
Lisätietoja
AsiakaspalveluTietoa verkkokaupasta Toimitusehdot Tietosuojaseloste |