SULJE VALIKKO
KIRJAUDU
| Spacer Engineered FinFET Architectures - High-Performance Digital Circuit Applications 164,10 € Taylor & Francis Inc Sivumäärä: 154 sivua Asu: Kovakantinen kirja Julkaisuvuosi: 2017, 06.06.2017 (lisätietoa) Kieli: Englanti This book focusses on the spacer engineering aspects of novel MOS-based device–circuit co-design in sub-20nm technology node, its process complexity, variability, and reliability issues. It comprehensively explores the FinFET/tri-gate architectures with their circuit/SRAM suitability and tolerance to random statistical variations. Tilaustuote | Arvioimme, että tuote lähetetään meiltä noin 2-3 viikossa | Tilaa jouluksi viimeistään 27.11.2024
Myymäläsaatavuus
Näytä kaikki tuotetiedotISBN: 9781498783590 Aihealue: |
Sisäänkirjautuminen
Kirjaudu sisäänRekisteröityminen |
Oma tili
Omat tiedotOmat tilaukset Omat laskut |
Lisätietoja
AsiakaspalveluTietoa verkkokaupasta Toimitusehdot Tietosuojaseloste |