SULJE VALIKKO

avaa valikko

Matthew Pelliccione | Akateeminen Kirjakauppa

Haullasi löytyi yhteensä 3 tuotetta
Haluatko tarkentaa hakukriteerejä?



Evolution of Thin Film Morphology - Modeling and Simulations
Matthew Pelliccione; Toh-Ming Lu
Springer-Verlag New York Inc. (2007)
Kovakantinen kirja
129,90
Tuotetta lisätty
ostoskoriin kpl
Siirry koriin
Evolution of Thin Film Morphology - Modeling and Simulations
Matthew Pelliccione; Toh-Ming Lu
Springer-Verlag New York Inc. (2010)
Pehmeäkantinen kirja
129,90
Tuotetta lisätty
ostoskoriin kpl
Siirry koriin
Evolution of Thin Film Morphology
Matthew Pelliccione; Toh-Ming Lu
SPRINGER VERLAG GMBH (2008)
Pehmeäkantinen kirja
65,50
Tuotetta lisätty
ostoskoriin kpl
Siirry koriin
Evolution of Thin Film Morphology - Modeling and Simulations
129,90 €
Springer-Verlag New York Inc.
Sivumäärä: 206 sivua
Asu: Kovakantinen kirja
Painos: 2008 ed.
Julkaisuvuosi: 2007, 30.11.2007 (lisätietoa)
Kieli: Englanti
Tuotesarja: Springer Series in Materials Science 108
Thin?lmdepositionisthemostubiquitousandcriticaloftheprocessesusedto manufacture high-tech devices such as microprocessors, memories, solar cells, microelectromechanicalsystems(MEMS),lasers,solid-statelighting,andp- tovoltaics. The morphology and microstructure of thin ?lms directly controls their optical, magnetic, and electrical properties, which are often signi?cantly di?erent from bulk material properties. Precise control of morphology and microstructure during thin ?lm growth is paramount to producing the - sired ?lm quality for speci?c applications. To date, many thin ?lm deposition techniques have been employed for manufacturing ?lms, including thermal evaporation,sputterdeposition,chemicalvapordeposition,laserablation,and electrochemical deposition. The growth of ?lms using these techniques often occurs under highly n- equilibrium conditions (sometimes referred to as far-from-equilibrium), which leads to a rough surface morphology and a complex temporal evolution. As atoms are deposited on a surface, atoms do not arrive at the surface at the same time uniformly across the surface. This random ?uctuation, or noise, which is inherent to the deposition process, may create surface growth front roughness. The noise competes with surface smoothing processes, such as surface di?usion, to form a rough morphology if the experiment is performed at a su?ciently low temperature and / or at a high growth rate. In addition, growth front roughness can also be enhanced by growth processes such as geometrical shadowing. Due to the nature of the deposition process, atoms approaching the surface do not always approach in parallel; very often atoms arrive at the surface with an angular distribution.

Tuotetta lisätty
ostoskoriin kpl
Siirry koriin
LISÄÄ OSTOSKORIIN
Tilaustuote | Arvioimme, että tuote lähetetään meiltä noin 4-5 viikossa | Tilaa jouluksi viimeistään 27.11.2024
Myymäläsaatavuus
Helsinki
Tapiola
Turku
Tampere
Evolution of Thin Film Morphology - Modeling and Simulationszoom
Näytä kaikki tuotetiedot
ISBN:
9780387751085
Sisäänkirjautuminen
Kirjaudu sisään
Rekisteröityminen
Oma tili
Omat tiedot
Omat tilaukset
Omat laskut
Lisätietoja
Asiakaspalvelu
Tietoa verkkokaupasta
Toimitusehdot
Tietosuojaseloste