SULJE VALIKKO
KIRJAUDU
RAPID THERMAL AND INTEGRATED PROCESSING IV: VOLUME 387 | ||
| Rapid Thermal and Integrated Processing IV: Volume 387 30,30 € Materials Research Society Sivumäärä: 455 sivua Asu: Kovakantinen kirja Julkaisuvuosi: 1995, 27.10.1995 (lisätietoa) Kieli: Englanti The fourth in a continuing series on rapid thermal processing (RTP), this volume addresses work in traditional RTP processes such as dielectric growth, annealing and silicides, as well as developments in integrated processes. The primary focus, however, is the manufacturing aspects of RTP and the successful integration of RTP into production semiconductor fabs. Emphasis is placed on process and equipment modelling and the critical aspects of RTP, such as temperature measurement, uniformity and control. Topics include: modelling, sensors and control; integrated processing and manufacturing; dielectrics; epitaxy, polysilicon and devices; and junctions, metallization and contacts. Tilaustuote | Arvioimme, että tuote lähetetään meiltä noin 1-3 viikossa. | Tilaa jouluksi viimeistään 27.11.2024. Tuote ei välttämättä ehdi jouluksi.
Myymäläsaatavuus
Näytä kaikki tuotetiedotISBN: 9781558992900 Aihealue: |
Sisäänkirjautuminen
Kirjaudu sisäänRekisteröityminen |
Oma tili
Omat tiedotOmat tilaukset Omat laskut |
Lisätietoja
AsiakaspalveluTietoa verkkokaupasta Toimitusehdot Tietosuojaseloste |