SULJE VALIKKO

avaa valikko

Jeffrey C. Gelpey | Akateeminen Kirjakauppa

Haullasi löytyi yhteensä 3 tuotetta
Haluatko tarkentaa hakukriteerejä?



Rapid Thermal and Integrated Processing IV: Volume 470
Jeffrey C. Gelpey; Terrence J. Riley; Fred Roozeboom; Shuichi Saito
Materials Research Society (1998)
Kovakantinen kirja
30,10
Tuotetta lisätty
ostoskoriin kpl
Siirry koriin
Rapid Thermal and Integrated Processing III: Volume 342
Steven R. J. Brueck; Jeffrey C. Gelpey; Martin L. Green; Fred Roozeboom; Jimmie J. Wortman
Materials Research Society (1994)
Kovakantinen kirja
30,30
Tuotetta lisätty
ostoskoriin kpl
Siirry koriin
Rapid Thermal and Integrated Processing IV: Volume 387
Steven R. J. Brueck; Jeffrey C. Gelpey; Ahman Kermani; Jorge L. Regolini; James C. Sturm
Materials Research Society (1995)
Kovakantinen kirja
30,30
Tuotetta lisätty
ostoskoriin kpl
Siirry koriin
Rapid Thermal and Integrated Processing IV: Volume 470
30,10 €
Materials Research Society
Sivumäärä: 435 sivua
Asu: Kovakantinen kirja
Julkaisuvuosi: 1998, 09.01.1998 (lisätietoa)
Kieli: Englanti
The MRS proceedings series on rapid thermal processing (RTP) has become the predominant international forum for research in this exciting and fast-growing field. In particular, this book in the series clearly indicates that the science of RTP is increasingly better understood and that equipment simulation and engineering have matured. With the so-called 'second generation' equipment vendors are providing useful and production-worthy solutions to the most pertinent problems within RTP - temperature measurement and reproducability. For that reason, the issues of temperature calibration and metrology, along with the International Temperature Scale, are featured. The evaluation and modelling of furnace, mini-bath and single-wafer RTP furnaces as the thermal method of choice are also addressed. Interesting developments are reported in the processing of dielectrics. Applications outside the field of silicon semiconductors are also presented. Topics include: measurement; RTCVD; modelling and manufacturing; integrated processing; silicides; annealing and defects; dielectrics; and RTP of III-V materials and other novel applications.

Tuotetta lisätty
ostoskoriin kpl
Siirry koriin
LISÄÄ OSTOSKORIIN
Tilaustuote | Arvioimme, että tuote lähetetään meiltä noin 1-3 viikossa. | Tilaa jouluksi viimeistään 27.11.2024. Tuote ei välttämättä ehdi jouluksi.
Myymäläsaatavuus
Helsinki
Tapiola
Turku
Tampere
Rapid Thermal and Integrated Processing IV: Volume 470
Näytä kaikki tuotetiedot
ISBN:
9781558993747
Sisäänkirjautuminen
Kirjaudu sisään
Rekisteröityminen
Oma tili
Omat tiedot
Omat tilaukset
Omat laskut
Lisätietoja
Asiakaspalvelu
Tietoa verkkokaupasta
Toimitusehdot
Tietosuojaseloste