SULJE VALIKKO

avaa valikko

Alexander A. Demkov | Akateeminen Kirjakauppa

Haullasi löytyi yhteensä 7 tuotetta
Haluatko tarkentaa hakukriteerejä?



Materials Fundamentals of Gate Dielectrics
Tekijä: Alexander A. Demkov; Alexandra Navrotsky
Kustantaja: Springer-Verlag New York Inc. (2005)
Saatavuus: Noin 17-20 arkipäivää
EUR   129,90
Materials Fundamentals of Gate Dielectrics
Tekijä: Alexander A. Demkov; Alexandra Navrotsky
Kustantaja: Springer (2011)
Saatavuus: Noin 17-20 arkipäivää
EUR   129,90
CMOS Gate-Stack Scaling — Materials, Interfaces and Reliability Implications: Volume 1155
Tekijä: Alexander A. Demkov; Bill Taylor; H. Rusty Harris; Jeffery W. Butterbaugh; Willy Rachmady
Kustantaja: Materials Research Society (2009)
Saatavuus: | Arvioimme, että tuote lähetetään meiltä noin 1-3 viikossa
EUR   115,80
Integration of Functional Oxides with Semiconductors
Tekijä: Alexander A. Demkov; Agham B. Posadas
Kustantaja: Springer (2014)
Saatavuus: Noin 17-20 arkipäivää
EUR   97,90
CMOS Gate-Stack Scaling — Materials, Interfaces and Reliability Implications: Volume 1155
Tekijä: Alexander A. Demkov; Bill Taylor; H. Rusty Harris; Jeffery W. Butterbaugh; Willy Rachmady
Kustantaja: Cambridge University Press (2014)
Saatavuus: | Arvioimme, että tuote lähetetään meiltä noin 1-3 viikossa
EUR   31,80
Thin Films On Silicon: Electronic And Photonic Applications
Tekijä: Vijay Narayanan; Martin M Frank; Alexander A Demkov
Kustantaja: World Scientific Publishing Co Pte Ltd (2016)
Saatavuus: Noin 13-16 arkipäivää
EUR   205,50
Integration of Functional Oxides with Semiconductors
Tekijä: Alexander A. Demkov; Agham B. Posadas
Kustantaja: Springer (2016)
Saatavuus: Noin 17-20 arkipäivää
EUR   97,90
    
Materials Fundamentals of Gate Dielectrics
129,90 €
Springer-Verlag New York Inc.
Sivumäärä: 476 sivua
Asu: Kovakantinen kirja
Painos: 2005
Julkaisuvuosi: 2005, 14.07.2005 (lisätietoa)
Kieli: Englanti
According to Bernie Meyerson, IBM's chief technology of?cer, the traditional sc- ing of semiconductor manufacturing processes died somewhere between the 1- and 90-nanometer nodes. One of the prime reasons is the low dielectric constant of SiO - thechoice dielectricof all modern electronics. This book presents materials 2 fundamentals of the novel gate dielectrics that are being introduced into semic- ductor manufacturing to ensure the Moore's law scaling of CMOS devices. This is a very rapidly evolving?eld of research and we try to focus on the basicundersta- ing of structure, thermodynamics, and electronic properties of these materials that determine their performance in the device applications. Thevolume was conceivedin 2001 afteraSymposium on Alternative Gate - electrics we had at the American Physical Society March Meeting in Seattle, upon the suggestion of the Kluwer editor Sabine Freisem. After several discussions we decided that such a bookindeed would be useful as long as we could focus on the fundamental side of the problem and keep the level of the discussion accessible to graduate students andavariety of professionals from different ?elds. The problem of?nding a replacement for SiO asa gate dielectric bringstogether inaunique way 2 many fundamental disciplines.
At the same time this problem is truly applied and practical. It looked unlikelythat the perfect new material would be foundfast; rather there would be a series of evolving candidate materialsand approaches.

Tuotetta lisätty
ostoskoriin kpl
Siirry koriin
LISÄÄ OSTOSKORIIN
Tilaustuote | Arvioimme, että tuote lähetetään meiltä noin 17-20 arkipäivässä
Myymäläsaatavuus
Helsinki
Tapiola
Turku
Tampere
Materials Fundamentals of Gate Dielectricszoom
Näytä kaikki tuotetiedot
ISBN:
9781402030772
Sisäänkirjautuminen
Kirjaudu sisään
Rekisteröityminen
Oma tili
Omat tiedot
Omat tilaukset
Omat laskut
Lisätietoja
Asiakaspalvelu
Tietoa verkkokaupasta
Toimitusehdot
Tietosuojaseloste