Physical Design and Mask Synthesis for Directed Self-Assembly Lithography, Shim, Seongbo; Shin, Youngsoo, Springer Nature Switzerland AG

KIRJAUDU

ostoskori

avaa valikko

Physical Design and Mask Synthesis for Directed Self-Assembly Lithography

Seongbo Shim, Youngsoo Shin

97,90 €

Springer Nature Switzerland AG
Sivumäärä: 138 sivua
Asu: Pehmeäkantinen kirja
Painos: Softcover reprint of
Julkaisuvuosi: 2019, 08.02.2019 (lisätietoa)
Kieli: Englanti
Tuotesarja: NanoScience and Technology

This book discusses physical design and mask synthesis of directed self-assembly lithography (DSAL). It covers the basic background of DSAL technology, physical design optimizations such as placement and redundant via insertion, and DSAL mask synthesis as well as its verification. Directed self-assembly lithography (DSAL) is a highly promising patterning solution in sub-7nm technology.

LISÄÄ OSTOSKORIIN

Tilaustuote | Arvioimme, että tuote lähetetään meiltä noin 4-5 viikossa | Tilaa jouluksi viimeistään 27.11.2024

Myymäläsaatavuus