SULJE VALIKKO

avaa valikko

Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications
58,50 €
William Andrew
Sivumäärä: 251 sivua
Asu: Kovakantinen kirja
Julkaisuvuosi: 1992, 31.12.1992 (lisätietoa)
Kieli: Englanti
This monograph condenses the relevant and pertinent literature on blanket and selective CVD of tungsten (W) into a single manageable volume. The book supplies the reader with the necessary background to bring up, fine tune, and successfully maintain a CVD-W process in a production set-up. Materials deposition chemistry, equipment, process technology, developments, and applications are described.

Loppuunmyyty
Myymäläsaatavuus
Helsinki
Tapiola
Turku
Tampere
Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications
Näytä kaikki tuotetiedot
ISBN:
9780815512882
Sisäänkirjautuminen
Kirjaudu sisään
Rekisteröityminen
Oma tili
Omat tiedot
Omat tilaukset
Omat laskut
Lisätietoja
Asiakaspalvelu
Tietoa verkkokaupasta
Toimitusehdot
Tietosuojaseloste