SULJE VALIKKO

avaa valikko

Artificially Induced Grain Alignment in Thin Films: Volume 1150
116,60 €
Materials Research Society
Sivumäärä: 193 sivua
Asu: Kovakantinen kirja
Julkaisuvuosi: 2009, 17.11.2009 (lisätietoa)
Kieli: Englanti
Thin-film growth is a very old art and an established scientific field in materials science. For decades, growth of monocrystal-like films has been practiced by making use of epitaxy on monocrystalline substrates. In the quest for greater control of materials, the next level of achievement will be to grow well-oriented thin films on arbitrary substrates, i.e., without the need for monocrystalline substrates. That is the goal of artificially inducing grain alignment in thin films. Texturing methods show significant promise in fabricating technologically attractive grain-aligned films. However, over the last three decades a variety of methods for grain alignment have been demonstrated with varying degrees of success. The focus of this book is on physical vapor deposition methods for growth of inorganic thin films, with special attention paid to ion beam assisted deposition (IBAD) texturing. Topics include: milestones in IBAD texturing; IBAD texturing; IBAD long-length application and texturing by other techniques.

Tuotetta lisätty
ostoskoriin kpl
Siirry koriin
LISÄÄ OSTOSKORIIN
Tilaustuote | Arvioimme, että tuote lähetetään meiltä noin 1-3 viikossa. | Tilaa jouluksi viimeistään 27.11.2024. Tuote ei välttämättä ehdi jouluksi.
Myymäläsaatavuus
Helsinki
Tapiola
Turku
Tampere
Artificially Induced Grain Alignment in Thin Films: Volume 1150zoom
Näytä kaikki tuotetiedot
ISBN:
9781605111223
Sisäänkirjautuminen
Kirjaudu sisään
Rekisteröityminen
Oma tili
Omat tiedot
Omat tilaukset
Omat laskut
Lisätietoja
Asiakaspalvelu
Tietoa verkkokaupasta
Toimitusehdot
Tietosuojaseloste