Photomask and Next-generation Lithography Mask Technology VIII, Kawahira, Hiroichi, SPIE Press

KIRJAUDU

ostoskori

avaa valikko

Photomask and Next-generation Lithography Mask Technology VIII

Hiroichi Kawahira

279,70 €

SPIE Press
Sivumäärä: 754 sivua
Asu: Pehmeäkantinen kirja
Julkaisuvuosi: 2001, 05.09.2001 (lisätietoa)

Tuotteella ei tuotekuvausta.

LISÄÄ OSTOSKORIIN

Tuotteella on huono saatavuus ja tuote toimitetaan hankintapalvelumme kautta. Tilaamalla tämän tuotteen hyväksyt palvelun aloittamisen. Seuraa saatavuutta.

Myymäläsaatavuus

Helsinki

Tapiola

Turku

Tampere

Photomask and Next-generation Lithography Mask Technology VIII

Näytä kaikki tuotetiedot

ISBN:

9780819441119

Aihealue:

Ulkomaiset kirjat

Sisäänkirjautuminen

Kirjaudu sisään
Rekisteröityminen

Oma tili

Omat tiedot
Omat tilaukset
Omat laskut

Lisätietoja

Asiakaspalvelu
Tietoa verkkokaupasta
Toimitusehdot
Tietosuojaseloste