Zirconium doped tantalum oxide high-k dielectric films for MOS devices, Jagadeesh Chandra, S V; Kumar, Mallem; Ramana, Ch V V, LAP Lambert Academic Publishing

KIRJAUDU

ostoskori

avaa valikko

Zirconium doped tantalum oxide high-k dielectric films for MOS devices

S V Jagadeesh Chandra, Mallem Kumar, Ch V V Ramana

83,70 €

LAP Lambert Academic Publishing
Sivumäärä: 60 sivua
Asu: Pehmeäkantinen kirja
Julkaisuvuosi: 2018, 18.06.2018 (lisätietoa)
Kieli: Englanti

Tuotteella ei tuotekuvausta.

LISÄÄ OSTOSKORIIN

Tuotteella on huono saatavuus ja tuote toimitetaan hankintapalvelumme kautta. Tilaamalla tämän tuotteen hyväksyt palvelun aloittamisen. Seuraa saatavuutta.

Myymäläsaatavuus

Helsinki

Tapiola

Turku

Tampere

Zirconium doped tantalum oxide high-k dielectric films for MOS devices

Näytä kaikki tuotetiedot

ISBN:

9783330346840

Aihealue:

Ulkomaiset kirjat » Technology » Electronics » General

Sisäänkirjautuminen

Kirjaudu sisään
Rekisteröityminen

Oma tili

Omat tiedot
Omat tilaukset
Omat laskut

Lisätietoja

Asiakaspalvelu
Tietoa verkkokaupasta
Toimitusehdot
Tietosuojaseloste