Photomask Technology and Management: Annual BACUS Symposium 18th, Grenon, Brian J. (toim.); Abboud, Frank E. (toim.), SPIE Press

KIRJAUDU

ostoskori

avaa valikko

Photomask Technology and Management: Annual BACUS Symposium 18th

Brian J. Grenon (toim.), Frank E. Abboud (toim.)

238,60 €

SPIE Press
Sivumäärä: 686 sivua
Asu: Pehmeäkantinen kirja
Julkaisuvuosi: 1999, 31.05.1999 (lisätietoa)

This work brings together 68 papers from the 18th Bacus symposium on photomask technology and management. It covers photomask patterning, defects, inspection, repair, mask metrology and advanced mask metrology.

LISÄÄ OSTOSKORIIN

Tuotteella on huono saatavuus ja tuote toimitetaan hankintapalvelumme kautta. Tilaamalla tämän tuotteen hyväksyt palvelun aloittamisen. Seuraa saatavuutta.

Myymäläsaatavuus