SULJE VALIKKO

avaa valikko

Chemical Vapor Deposition of Refractory Metals and Ceramics III: Volume 363
29,60 €
Materials Research Society
Sivumäärä: 283 sivua
Asu: Kovakantinen kirja
Julkaisuvuosi: 1995, 05.04.1995 (lisätietoa)
Kieli: Englanti
CVD (chemical vapor deposition) technology is receiving much interest in the scientific community, in particular for synthesizing new materials with tailored chemical composition and physical properties that offer multiple functionality. Multiphase or multilayered films, functionally graded materials (FGMs), “smart” material structures and nanocomposites are just a few examples of the new classes of materials being produced via CVD. This third volume in the series from MRS offers an interdisciplinary perspective on technological issues relevant to CVD materials and processes, and provides a forum for the exchange of new scientific results. Topics include: fundamentals, modeling and diagnostics; process/microstructure/property relationships; diamond, cubic boron nitride and related materials; organometallic chemical vapor deposition and novel approaches.

Tuotetta lisätty
ostoskoriin kpl
Siirry koriin
LISÄÄ OSTOSKORIIN
Tilaustuote | Arvioimme, että tuote lähetetään meiltä noin 1-3 viikossa. | Tilaa jouluksi viimeistään 27.11.2024. Tuote ei välttämättä ehdi jouluksi.
Myymäläsaatavuus
Helsinki
Tapiola
Turku
Tampere
Chemical Vapor Deposition of Refractory Metals and Ceramics III: Volume 363
Näytä kaikki tuotetiedot
ISBN:
9781558992641
Sisäänkirjautuminen
Kirjaudu sisään
Rekisteröityminen
Oma tili
Omat tiedot
Omat tilaukset
Omat laskut
Lisätietoja
Asiakaspalvelu
Tietoa verkkokaupasta
Toimitusehdot
Tietosuojaseloste