KIRJAUDU
A Study of Gate-Oxide Leakage in Mos Devices
124,30 €
Open Dissertation Press
Sivumäärä: 222 sivua
Asu: Kovakantinen kirja
Julkaisuvuosi: 2017, 27.01.2017 (lisätietoa)
Kieli: Englanti
Sivumäärä: 222 sivua
Asu: Kovakantinen kirja
Julkaisuvuosi: 2017, 27.01.2017 (lisätietoa)
Kieli: Englanti
Tuotteella ei tuotekuvausta.
Tuotteella on huono saatavuus ja tuote toimitetaan hankintapalvelumme kautta. Tilaamalla tämän tuotteen hyväksyt palvelun aloittamisen. Seuraa saatavuutta.
Myymäläsaatavuus
Näytä kaikki tuotetiedot
ISBN:
9781374776289
Aihealue:
|
Sisäänkirjautuminen
Kirjaudu sisäänRekisteröityminen |
Oma tili
Omat tiedotOmat tilaukset Omat laskut |
Lisätietoja
AsiakaspalveluTietoa verkkokaupasta Toimitusehdot Tietosuojaseloste |