Controlling Cosi2 Formation Temperature by Reactive Deposition, Ali Ahmed, Hind, LAP Lambert Academic Publishing

KIRJAUDU

ostoskori

avaa valikko

Controlling Cosi2 Formation Temperature by Reactive Deposition

58,60 €

LAP Lambert Academic Publishing
Sivumäärä: 100 sivua
Asu: Pehmeäkantinen kirja
Julkaisuvuosi: 2010, 23.06.2010 (lisätietoa)
Kieli: Englanti

Tuotteella ei tuotekuvausta.

LISÄÄ OSTOSKORIIN

Tilaustuote | Arvioimme, että tuote lähetetään meiltä noin 3-4 viikossa

Myymäläsaatavuus

Helsinki

Tapiola

Turku

Tampere

Näytä kaikki tuotetiedot

ISBN:

9783838339382

Aihealue:

Sisäänkirjautuminen

Oma tili

Lisätietoja