SULJE VALIKKO

Englanninkielisten kirjojen poikkeusaikata... LUE LISÄÄ

avaa valikko

Tommi Kääriäinen | Akateeminen Kirjakauppa

ATOMIC LAYER DEPOSITION - PRINCIPLES, CHARACTERISTICS, AND NANOTECHNOLOGY APPLICATIONS

Atomic Layer Deposition - Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications
Tommi Kääriäinen; David Cameron; Marja-Leena Kääriäinen; Arthur Sherman
John Wiley & Sons Inc (2013)
Kovakantinen kirja
193,90
Tuotetta lisätty
ostoskoriin kpl
Siirry koriin
Atomic Layer Deposition - Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications
193,90 €
John Wiley & Sons Inc
Sivumäärä: 272 sivua
Asu: Kovakantinen kirja
Painos: 2nd edition
Julkaisuvuosi: 2013, 28.06.2013 (lisätietoa)
Kieli: Englanti
Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective. It covers ALD's application to microelectronics (MEMS) and nanotechnology; many important new and emerging applications; thermal processes for ALD growth of nanometer thick films of semiconductors, oxides, metals and nitrides; and the formation of organic and hybrid materials.

Tuotetta lisätty
ostoskoriin kpl
Siirry koriin
LISÄÄ OSTOSKORIIN
Tuote on tilapäisesti loppunut ja sen saatavuus on epävarma. Seuraa saatavuutta.
Myymäläsaatavuus
Helsinki
Tapiola
Turku
Tampere
Atomic Layer Deposition - Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applicationszoom
Näytä kaikki tuotetiedot
ISBN:
9781118062777
Sisäänkirjautuminen
Kirjaudu sisään
Rekisteröityminen
Oma tili
Omat tiedot
Omat tilaukset
Omat laskut
Lisätietoja
Asiakaspalvelu
Tietoa verkkokaupasta
Toimitusehdot
Tietosuojaseloste