![Akateeminen Kirjakauppa](/images/index/logo-1195.jpg)
SULJE VALIKKO
KIRJAUDU
| Investigation of Inversion Layer Mobility in N-Channel Mosfets with Thin Gate Oxide 108,90 € Open Dissertation Press Sivumäärä: 222 sivua Asu: Pehmeäkantinen kirja Julkaisuvuosi: 2017, 27.01.2017 (lisätietoa) Kieli: Englanti Tuotteella ei tuotekuvausta. Tuotteella on huono saatavuus ja tuote toimitetaan hankintapalvelumme kautta. Tilaamalla tämän tuotteen hyväksyt palvelun aloittamisen. Seuraa saatavuutta.
Myymäläsaatavuus
![]() ![]() ![]() ![]() Näytä kaikki tuotetiedotISBN: 9781374743373 Aihealue: |
Sisäänkirjautuminen
Kirjaudu sisäänRekisteröityminen |
Oma tili
Omat tiedotOmat tilaukset Omat laskut |
Lisätietoja
AsiakaspalveluTietoa verkkokaupasta Toimitusehdot Tietosuojaseloste |