Stefan Rummelin | Akateeminen Kirjakauppa

PHOTOMASK AND NEXT-GENERATION LITHOGRAPHY MASK TECHNOLOGY XIX

Pavel Nesladek; Stefan Rummelin; Uzodinma Okoroanyanwu
SPIE Press (2012)

250,20 €

Photomask and Next-generation Lithography Mask Technology XIX

Pavel Nesladek, Stefan Rummelin, Uzodinma Okoroanyanwu

250,20 €

SPIE Press
Sivumäärä: 520 sivua
Julkaisuvuosi: 2012, 15.07.2012 (lisätietoa)

Tuotteella ei tuotekuvausta.

LISÄÄ OSTOSKORIIN

Tuotteella on huono saatavuus ja tuote toimitetaan hankintapalvelumme kautta. Tilaamalla tämän tuotteen hyväksyt palvelun aloittamisen. Seuraa saatavuutta.

Myymäläsaatavuus

Helsinki

Tapiola

Turku

Tampere

Näytä kaikki tuotetiedot

ISBN:

9780819491367

Aihealue:

Ulkomaiset kirjat

Sisäänkirjautuminen

Kirjaudu sisään
Rekisteröityminen

Oma tili

Omat tiedot
Omat tilaukset
Omat laskut

Lisätietoja

Asiakaspalvelu
Tietoa verkkokaupasta
Toimitusehdot
Tietosuojaseloste