Ruhang Ding | Akateeminen Kirjakauppa

ANISOTROPIC FLUOROCARBON PLASMA ETCHING OF SILICON/SILICON GERMANIDE HETEROSTRUCTURES AND PLASMA ETCHING-INDUCED SIDEWALL DAMAGE

Ruhang Ding
Proquest, Umi Dissertation Publishing (2011)
Pehmeäkantinen kirja

126,70 €

Anisotropic Fluorocarbon Plasma Etching of Silicon/Silicon Germanide Heterostructures and Plasma Etching-Induced Sidewall Damage

Ruhang Ding

126,70 €

Proquest, Umi Dissertation Publishing
Sivumäärä: 136 sivua
Asu: Pehmeäkantinen kirja
Julkaisuvuosi: 2011, 01.09.2011 (lisätietoa)
Kieli: Englanti

Tuotteella ei tuotekuvausta.

LISÄÄ OSTOSKORIIN

Tuotteella on huono saatavuus ja tuote toimitetaan hankintapalvelumme kautta. Tilaamalla tämän tuotteen hyväksyt palvelun aloittamisen. Seuraa saatavuutta.

Myymäläsaatavuus

Helsinki

Tapiola

Turku

Tampere

Näytä kaikki tuotetiedot

ISBN:

9781243515414

Aihealue:

Ulkomaiset kirjat » Technology » General

Sisäänkirjautuminen

Kirjaudu sisään
Rekisteröityminen

Oma tili

Omat tiedot
Omat tilaukset
Omat laskut

Lisätietoja

Asiakaspalvelu
Tietoa verkkokaupasta
Toimitusehdot
Tietosuojaseloste