KIRJAUDU
Ruhang Ding | Akateeminen Kirjakauppa
ANISOTROPIC FLUOROCARBON PLASMA ETCHING OF SILICON/SILICON GERMANIDE HETEROSTRUCTURES AND PLASMA ETCHING-INDUCED SIDEWALL DAMAGE | ||
| Anisotropic Fluorocarbon Plasma Etching of Silicon/Silicon Germanide Heterostructures and Plasma Etching-Induced Sidewall Damage 126,20 € Proquest, Umi Dissertation Publishing Sivumäärä: 136 sivua Asu: Pehmeäkantinen kirja Julkaisuvuosi: 2011, 01.09.2011 (lisätietoa) Kieli: Englanti Tuotteella ei tuotekuvausta. Tuotteella on huono saatavuus ja tuote toimitetaan hankintapalvelumme kautta. Tilaamalla tämän tuotteen hyväksyt palvelun aloittamisen. Seuraa saatavuutta.
Myymäläsaatavuus
Näytä kaikki tuotetiedotISBN: 9781243515414 Aihealue: | |
|
Sisäänkirjautuminen
Kirjaudu sisäänRekisteröityminen |
Oma tili
Omat tiedotOmat tilaukset Omat laskut |
Lisätietoja
AsiakaspalveluTietoa verkkokaupasta Toimitusehdot Tietosuojaseloste |