SULJE VALIKKO

avaa valikko

Marc Meuris | Akateeminen Kirjakauppa

Haullasi löytyi yhteensä 5 tuotetta
Haluatko tarkentaa hakukriteerejä?



Chemical-Mechanical Polishing 2000 - Fundamentals and Materials Issues: Volume 613
Rajiv K. Singh; Rajeev Bajaj; Mansour Moinpour; Marc Meuris
Materials Research Society (2001)
Kovakantinen kirja
35,90
Tuotetta lisätty
ostoskoriin kpl
Siirry koriin
Chemical-Mechanical Polishing 2000 – Fundamentals and Materials Issues: Volume 613
Rajiv K. Singh; Rajeev Bajaj; Mansour Moinpour; Marc Meuris
Cambridge University Press (2014)
Pehmeäkantinen kirja
33,40
Tuotetta lisätty
ostoskoriin kpl
Siirry koriin
Domina Tus Emociones - Una guía práctica para superar la negatividad y controlar mejor tus emociones
Juan Manuel Gimenez Sirimarco; Thibaut Meurisse
Independently Published (2020)
Pehmeäkantinen kirja
22,30
Tuotetta lisätty
ostoskoriin kpl
Siirry koriin
Domina Tu Tiempo - Una guia practica para aumentar tu productividad y aprovechar tu tiempo
Juan Manuel Gimenez Sirimarco; Thibaut Meurisse
Independently Published (2021)
Pehmeäkantinen kirja
17,90
Tuotetta lisätty
ostoskoriin kpl
Siirry koriin
Domina Tu Concentracion & Tu Destino - 2 Libros en 1
Juan Manuel Gimenez Sirimarco; Thibaut Meurisse
Independently Published (2021)
Pehmeäkantinen kirja
24,80
Tuotetta lisätty
ostoskoriin kpl
Siirry koriin
Chemical-Mechanical Polishing 2000 - Fundamentals and Materials Issues: Volume 613
35,90 €
Materials Research Society
Sivumäärä: 178 sivua
Asu: Kovakantinen kirja
Julkaisuvuosi: 2001, 16.04.2001 (lisätietoa)
Kieli: Englanti
Chemical-mechanical polishing (CMP) is a critical technology in the planarization of multilevel metallization systems and shallow-trench isolation in semiconductor manufacturing. Other emerging applications for this technology include flat-panel displays, magnetic data storage and microelectromechanical systems. The rapid emergence of copper as the conducting material for integrated circuits has further pushed CMP technology to the forefront of semiconductor manufacturing. However, a basic understanding of the CMP process, which is necessary to enable further advances, is inadequate. This book, first published in 2001, provides an insight into the fundamental processes in CMP. Presentations from academia, government institutions and industry are featured. Topics include: CMP mechanisms; dielectric and metal CMP; process integration and manufacturability; and CMP consumables.

Tuotetta lisätty
ostoskoriin kpl
Siirry koriin
LISÄÄ OSTOSKORIIN
Tilaustuote | Arvioimme, että tuote lähetetään meiltä noin 3-4 viikossa | Tilaa jouluksi viimeistään 27.11.2024
Myymäläsaatavuus
Helsinki
Tapiola
Turku
Tampere
Chemical-Mechanical Polishing 2000 - Fundamentals and Materials Issues: Volume 613zoom
Näytä kaikki tuotetiedot
ISBN:
9781558995215
Sisäänkirjautuminen
Kirjaudu sisään
Rekisteröityminen
Oma tili
Omat tiedot
Omat tilaukset
Omat laskut
Lisätietoja
Asiakaspalvelu
Tietoa verkkokaupasta
Toimitusehdot
Tietosuojaseloste