SULJE VALIKKO
KIRJAUDU
Englanninkielisten kirjojen poikkeusaikata... LUE LISÄÄ
| Nanoimprint Lithography 97,50 € Nova Science Publishers Inc Sivumäärä: 73 sivua Asu: Pehmeäkantinen kirja Julkaisuvuosi: 2011, 23.08.2011 (lisätietoa) Kieli: Englanti Lithography, the fundamental fabrication process of semiconductor devices, has been playing a critical role in micro-nanofabrication technologies and manufacturing of Integrated Circuits (IC). Traditional optical lithography including contact and project photolithography has contributed significantly to the semiconductor device advancements. Currently, maintaining the rapid pace of half-pitch reduction requires overcoming the challenge of improving and extending the incumbent optical projection lithography technology while simultaneously developing alternative, next generation lithography (NGL) technologies to be used when optical projection lithography is no longer more economical than the alternatives. Furthermore, NIL is also one of the most promising low-cost, high-throughput technologies for manufacturing nanostructures as this highly technical book will give new insight to. Tuotteella on huono saatavuus ja tuote toimitetaan hankintapalvelumme kautta. Tilaamalla tämän tuotteen hyväksyt palvelun aloittamisen. Seuraa saatavuutta.
Myymäläsaatavuus
Näytä kaikki tuotetiedotISBN: 9781611225013 Aihealue: |
Sisäänkirjautuminen
Kirjaudu sisäänRekisteröityminen |
Oma tili
Omat tiedotOmat tilaukset Omat laskut |
Lisätietoja
AsiakaspalveluTietoa verkkokaupasta Toimitusehdot Tietosuojaseloste |