SULJE VALIKKO
KIRJAUDU
DEVELOPMENT OF ADVANCED ENDPOINT DETECTION AND PROCESS CONTROL FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING (CMP) IN VLSI CIRCUIT FABRICATI | ||
| Development of advanced endpoint detection and process control for chemical mechanical polishing (CMP) in VLSI circuit fabricati 72,70 € Shaker Verlag Sivumäärä: 123 sivua Asu: Pehmeäkantinen kirja Julkaisuvuosi: 2000, 01.01.2000 (lisätietoa) Kieli: Englanti Tuotteella ei tuotekuvausta. Tuotteella on huono saatavuus ja tuote toimitetaan hankintapalvelumme kautta. Tilaamalla tämän tuotteen hyväksyt palvelun aloittamisen. Seuraa saatavuutta.
Myymäläsaatavuus
Näytä kaikki tuotetiedotISBN: 9783826578052 Aihealue: |
Sisäänkirjautuminen
Kirjaudu sisäänRekisteröityminen |
Oma tili
Omat tiedotOmat tilaukset Omat laskut |
Lisätietoja
AsiakaspalveluTietoa verkkokaupasta Toimitusehdot Tietosuojaseloste |