SULJE VALIKKO

avaa valikko

Edmund G. Seebauer (ed.) | Akateeminen Kirjakauppa

ION IMPLANTATION TECHNOLOGY : 17TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON ION IMPLANTATION TECHNOLOGY

Ion Implantation Technology : 17th International Conference on Ion Implantation Technology
Edmund G. Seebauer (ed.); Susan B. Felch (ed.); Amitabh Jain (ed.); Yevgeniy V. Kondratenko (ed.)
American Institute of Physics (2008)
Saatavuus: Loppuunmyyty
Kovakantinen kirja
198,00
Tuotetta lisätty
ostoskoriin kpl
Siirry koriin
Ion Implantation Technology : 17th International Conference on Ion Implantation Technology
198,00 €
American Institute of Physics
Sivumäärä: 576 sivua
Asu: Kovakantinen kirja
Painos: 2009
Julkaisuvuosi: 2008, 11.12.2008 (lisätietoa)
Kieli: Englanti

The conference is focused on recent advances and emerging technologies in semiconductor processing before, during and after ion implantation. The content encompasses fundamental physical understanding, common and novel applications as well as equipment issues, maintenance and design. The primary audience is process engineers in the microelectronics industry. Additional contributions come from academia and other industry segments (automotive, aerospace, and medical device manufacturing).



Loppuunmyyty
Myymäläsaatavuus
Helsinki
Tapiola
Turku
Tampere
Ion Implantation Technology : 17th International Conference on Ion Implantation Technologyzoom
Näytä kaikki tuotetiedot
Sisäänkirjautuminen
Kirjaudu sisään
Rekisteröityminen
Oma tili
Omat tiedot
Omat tilaukset
Omat laskut
Lisätietoja
Asiakaspalvelu
Tietoa verkkokaupasta
Toimitusehdot
Tietosuojaseloste