Brian J. Grenon | Akateeminen Kirjakauppa

Haullasi löytyi yhteensä 5 tuotetta
Haluatko tarkentaa hakukriteerejä?

PHOTOMASK TECHNOLOGY AND MANAGEMENT: ANNUAL BACUS SYMPOSIUM 18TH

Brian J. Grenon (toim.); Frank E. Abboud (toim.)
SPIE Press (1999)
Pehmeäkantinen kirja

240,00 €

20TH ANNUAL BACUS SYMPOSIUM ON PHOTOMASK TECHNOLOGY

Brian J. Grenon; Giang T. Dao
SPIE Press (2001)
Pehmeäkantinen kirja

313,70 €

22ND ANNUAL BACUS SYMPOSIUM ON PHOTOMASK TECHNOLOGY

Brian J. Grenon; Kurt R. Kimmel
SPIE Press (2002)
Pehmeäkantinen kirja

387,40 €

17TH ANNUAL BACUS SYMPOSIUM ON PHOTOMASK TECHNOLOGY AND MANAGEMENT

James A. Reynolds; Brian J. Grenon
SPIE Press (1998)
Pehmeäkantinen kirja

240,00 €

PHOTOMASK TECHNOLOGY

Giang T. Dao; Brian J. Grenon
SPIE Press (2002)
Pehmeäkantinen kirja

355,90 €

Photomask Technology and Management: Annual BACUS Symposium 18th

Brian J. Grenon (toim.), Frank E. Abboud (toim.)

240,00 €

SPIE Press
Sivumäärä: 686 sivua
Asu: Pehmeäkantinen kirja
Julkaisuvuosi: 1999, 31.05.1999 (lisätietoa)

This work brings together 68 papers from the 18th Bacus symposium on photomask technology and management. It covers photomask patterning, defects, inspection, repair, mask metrology and advanced mask metrology.

LISÄÄ OSTOSKORIIN

Tuotteella on huono saatavuus ja tuote toimitetaan hankintapalvelumme kautta. Tilaamalla tämän tuotteen hyväksyt palvelun aloittamisen. Seuraa saatavuutta.

Myymäläsaatavuus