
SULJE VALIKKO
KIRJAUDU
| Design for Manufacturability with Advanced Lithography 51,40 € Springer International Publishing AG Sivumäärä: 164 sivua Asu: Kovakantinen kirja Painos: 1st ed. 2016 Julkaisuvuosi: 2015, 23.11.2015 (lisätietoa) Kieli: Englanti This book introduces readers to the most advanced research results on Design for Manufacturability (DFM) with multiple patterning lithography (MPL) and electron beam lithography (EBL). The authors describe in detail a set of algorithms/methodologies to resolve issues in modern design for manufacturability problems with advanced lithography. Unlike books that discuss DFM from the product level or physical manufacturing level, this book describes DFM solutions from a circuit design level, such that most of the critical problems can be formulated and solved through combinatorial algorithms. Tilaustuote | Arvioimme, että tuote lähetetään meiltä noin 4-5 viikossa
Myymäläsaatavuus
![]() ![]() ![]() ![]() Näytä kaikki tuotetiedotISBN: 9783319203843 Aihealue: |
Sisäänkirjautuminen
Kirjaudu sisäänRekisteröityminen |
Oma tili
Omat tiedotOmat tilaukset Omat laskut |
Lisätietoja
AsiakaspalveluTietoa verkkokaupasta Toimitusehdot Tietosuojaseloste |