SULJE VALIKKO

avaa valikko

Alan R. Krauss | Akateeminen Kirjakauppa

IN SITU PROCESS DIAGNOSTICS AND MODELING: VOLUME 569

In Situ Process Diagnostics and Modeling: Volume 569
Orlando Auciello; Alan R. Krauss; Eugene A. Irene; J. Albert Schultz
Materials Research Society (1999)
Kovakantinen kirja
35,90
Tuotetta lisätty
ostoskoriin kpl
Siirry koriin
In Situ Process Diagnostics and Modeling: Volume 569
35,90 €
Materials Research Society
Sivumäärä: 199 sivua
Asu: Kovakantinen kirja
Julkaisuvuosi: 1999, 11.08.1999 (lisätietoa)
Kieli: Englanti
Fabrication of future generations of advanced film-based devices will require monitoring of ultrathin layers with sharp interfaces in which the layer thickness may reach atomic dimensions. It therefore becomes increasingly more important to be able to monitor film-deposition processes in situ and in real time under different background pressure conditions. Diffusion or surface segregation processes relevant to device fabrication also need to be characterized. To these ends, a variety of complimentary in situ, real-time characterization techniques are needed to advance the science and technology of thin films and interfaces. This book offers an interdisciplinary exchange of ideas from researchers with cross-disciplinary expertise. The application of in situ characterization methods are discussed in relation to different materials including oxides, nitrides, semiconductors, and metals analyzed at the macroscopic, microscopic and nanoscale level.

Tuotetta lisätty
ostoskoriin kpl
Siirry koriin
LISÄÄ OSTOSKORIIN
Tilaustuote | Arvioimme, että tuote lähetetään meiltä noin 2-3 viikossa | Tilaa jouluksi viimeistään 27.11.2024
Myymäläsaatavuus
Helsinki
Tapiola
Turku
Tampere
In Situ Process Diagnostics and Modeling: Volume 569
Näytä kaikki tuotetiedot
ISBN:
9781558994768
Sisäänkirjautuminen
Kirjaudu sisään
Rekisteröityminen
Oma tili
Omat tiedot
Omat tilaukset
Omat laskut
Lisätietoja
Asiakaspalvelu
Tietoa verkkokaupasta
Toimitusehdot
Tietosuojaseloste