SULJE VALIKKO
KIRJAUDU
Englanninkielisten kirjojen poikkeusaikata... LUE LISÄÄ
| Principles of Vapor Deposition of Thin Films 221,50 € Elsevier Science Sivumäärä: 1176 sivua Asu: Kovakantinen kirja Julkaisuvuosi: 2005, 16.12.2005 (lisätietoa) Kieli: Englanti The goal of producing devices that are smaller, faster, more functional, reproducible, reliable and economical has given thin film processing a unique role in technology.Principles of Vapor Deposition of Thin Films brings in to one place a diverse amount of scientific background that is considered essential to become knowledgeable in thin film depostition techniques. Its ultimate goal as a reference is to provide the foundation upon which thin film science and technological innovation are possible. * Offers detailed derivation of important formulae.* Thoroughly covers the basic principles of materials science that are important to any thin film preparation.* Careful attention to terminologies, concepts and definitions, as well as abundance of illustrations offer clear support for the text. Loppuunmyyty
Myymäläsaatavuus
Näytä kaikki tuotetiedotISBN: 9780080446998 Aihealue: |
Sisäänkirjautuminen
Kirjaudu sisäänRekisteröityminen |
Oma tili
Omat tiedotOmat tilaukset Omat laskut |
Lisätietoja
AsiakaspalveluTietoa verkkokaupasta Toimitusehdot Tietosuojaseloste |